一般是氢氧化钠固体和浓氨水制氨气 氢氧化钠固体溶于水放热的,促进氨水分解 NH3 +H2O==NH3·H2O===NH4+ +OH— 氢氧化钠吸水使平衡移动,促进氨气挥发出来
不要认为有氢的化学物质就可以用来制氢,不是说制不出来,理论上只要物质中含有H就能有办法分离出来,但你问的是生产工艺,所谓的生产工艺是说已经成熟的工艺,但此方法跟本毫无意义所以也就不会有成熟的生产工艺,如果谁要是硬拿出来一套工艺也没有价值.
氨分解制氢是一种化学反应,是指液氨加热至800~850℃,在镍基催化剂作用下,将氨进行分解,可以得到含75%H2、25%N2的氢氮混合气体。
用此法制得的气体是一种良好的保护气体,可以广泛地应用于半导体工业、冶金工业,以及需要保护气氛的其他工业和科学研究中。有汽化器内,电加热元件,氨气减压阀,等主要部件组成,
用液氨分解来制取保护气体,在工业上是很容易实现的,这是因为:
1、氨易分解:常压,800~850℃在催化剂作用下,即使空速较大,氨分解度仍可超过99%。
2、气体精制容易:作为液氨纯度是很高的,其中挥发性杂质只有少是惰性气体和水分,特别值得注意的是其中含O2极微,同时,氨分解时不可能有副反应发生。由此可见,氨分解后气体只要设法除去比较容易除去的少量水分就能得到精制了,半导体工业上所不希望存在的金属离子cl、CO2等问题都不存在了。
3、原料液氨容易得到。价格低廉,而且原料消耗也比较少(每公斤氨可产生2.6M3混合气体。)
水电解最大的优点是制取的氢气纯度很高,缺点是用电多。水 电 解 制 氢 : 成 本 较 高
利用液氨为原料,氨经裂解后,每公斤液氨裂解可制得2.64Nm混合气体,其中含75%的氢气和25%的氮气。
所得的气体含杂质较少(杂质中含水汽约2克/立方米,残余氨约1000ppm),再通过分子筛(美国UOP)吸附纯化器,气体的露点可降至-60C以下,残余氨可降至3PPM以下.氨裂解制氢炉可用于有色金属,硅钢、铬钢和不锈钢等金属材料和零件的光亮退火、硅钢片的脱碳处理、铜基、铁基粉末冶金烧结、电真空器件的金属零件烧氢处理、半导体器件的保护烧结和封结、钯合金膜扩散纯化氢气的原料气等。
原料氨容易得到,价格低廉,原料消耗较少。氨裂解来制取保护气体具有投资少,体积小,效率高等优点
应用摩尔的计算题。设生成X摩尔氨。先写出用氢气制取氨的化学反应方程式:3H2(氢气)+N2(氮气,加催化剂)=2NH3。
例比例式:(3摩尔氢气):(2摩尔氨)=1:X。X=3/2=1.5摩尔(氨)。
又因为1摩尔氨的质量是3×1+14=17,1.5摩尔=17x1.5=25.5克/摩尔。
答,1摩尔氢气能制取1.5摩尔氨,或22.5克氨。
利用液氨为原料,氨经裂解后,每公斤液氨裂解可制得2.64Nm混合气体,其中含75%的氢气和25%的氮气。所得的气体含杂质较少(杂质中含水汽约2克/立方米,残余氨约1000ppm),再通过分子筛(美国UOP)吸附纯化器,气体的露点可降至-60C以下,残余氨可降至3PPM以下.
氨裂解制氢炉可用于有色金属,硅钢、铬钢和不锈钢等金属材料和零件的光亮退火、硅钢片的脱碳处理、铜基、铁基粉末冶金烧结、电真空器件的金属零件烧氢处理、半导体器件的保护烧结和封结、钯合金膜扩散纯化氢气的原料气等。
原料氨容易得到,价格低廉,原料消耗较少。氨裂解来制取保护气体具有投资少,体积小,效率高等优点
合成氨的原料是氢气和氮气:氮气来源于空气,可以在制氢过程中直接加入空气,或在低温下将空气液化、分离而得;氢气来源于水或含有烃的各种燃料,工业上普遍采用的是以焦炭、煤、天然气、重油等燃料与水蒸气作用的气化方法。
合成氨是由氮和氢在高温高压及催化剂存在下合成的,是世界上重要的化工产品之一,也是全球产量第一的天然气化工产品。
氨分解以液氨为原料,液氨气化预热后进入装有催化剂的分解炉,在一定温度压力和催化剂的作用下氨即分解产生含氢75%、氮25%的混合气,气体经热交换器和冷却器后,进入装有UOP沸石分子筛为吸附剂的干燥器,经吸附分离纯化后有效脱除混合气中残余氨和水份。氨分解的化学方程式如下:2NH3==3H2+N2-22080卡在标准状况下, 1kg液氨完全分解能产生2.64Nm3氢氮混合气体